蒸鍍(dù)的物(wù)理過程包括:沉積材料蒸(zhēng)發或升華爲氣态粒(lì)子→氣态粒(lì)子快速從蒸發(fā)源向基片表面(miàn)輸送→氣态(tài)粒子附着在(zài)基(jī)片表(biǎo)面形核、長(zhǎng)大成(chéng)固體薄膜→薄膜(mó)原子重構或産(chǎn)生(shēng)化學鍵合。
将(jiāng)基片放入真空(kōng)室内(nèi),以電(diàn)阻、電子束、激光等方法加(jiā)熱膜料,使(shǐ)膜料(liào)蒸發(fā)或升(shēng)華,氣化爲具有(yǒu)一定(dìng)能量(0.1~0.3ev)的(de)粒子(原(yuán)子、分(fèn)子(zǐ)或原子(zǐ)團)。氣态(tài)粒(lì)子以(yǐ)基本(běn)無碰撞的(de)直線運動飛速(sù)傳送至基片,到(dào)達基(jī)片(piàn)表面的粒子一部(bù)分被反射,另一部分吸附在(zài)基(jī)片上并發生表面擴(kuò)散,沉積原子之(zhī)間(jiān)産生(shēng)二維碰(pèng)撞,形成簇(cù)團,有(yǒu)的可(kě)能在(zài)表面(miàn)短時(shí)停留後又(yòu)蒸發。