蒸鍍的物(wù)理過程包括(kuò)：沉(chén)積材(cái)料(liào)蒸發或升華(huá)爲氣态粒子→氣态粒(lì)子快(kuài)速從(cóng)蒸發(fā)源(yuán)向基片(piàn)表面輸送→氣态(tài)粒子(zǐ)附着(zhe)在基片表面(miàn)形核、長(zhǎng)大成(chéng)固體(tǐ)薄膜(mó)→薄膜原(yuán)子重構(gòu)或産(chǎn)生(shēng)化(huà)學鍵(jiàn)合(hé)。
将(jiāng)基片(piàn)放入真空室内，以電阻、電(diàn)子束、激光(guāng)等方法加熱膜料，使(shǐ)膜(mó)料蒸發或升華，氣化爲具有(yǒu)一定能(néng)量（0.1～0.3ev）的粒(lì)子（原(yuán)子、分子或(huò)原子(zǐ)團(tuán)）。氣(qì)态粒子以(yǐ)基本無碰(pèng)撞的直線運動飛速傳(chuán)送至基(jī)片，到達基片表面的粒(lì)子一部(bù)分(fèn)被反射，另一(yī)部分(fèn)吸附(fù)在基(jī)片上并發生表面擴散(sàn)，沉積原子之間産生二維(wéi)碰(pèng)撞(zhuàng)，形成簇(cù)團，有的可(kě)能在(zài)表面(miàn)短時停留(liú)後又蒸(zhēng)發。
客服熱(rè)線(xiàn)：
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